[发明专利]含镓的金属氧化物层的蚀刻溶液组合物无效
申请号: | 201210322644.3 | 申请日: | 2012-09-03 |
公开(公告)号: | CN102977889A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 张尚勋;权五柄;沈庆辅;李智娟;刘仁浩 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C09K13/04 | 分类号: | C09K13/04;H01L21/306 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李中奎 |
地址: | 韩国全罗*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种含镓的金属氧化物层的蚀刻溶液组合物。所述组合物包括:重量百分比为5%~20%的过硫酸盐、重量百分比为1%~15%的无机酸或无机酸的盐以及形成所述组合物的余量的水,以高的蚀刻速度均匀地进行金属氧化物层的湿蚀刻,该金属氧化物层包含氧化铟、氧化锌或其混合物以及镓或氧化镓,从而简化蚀刻过程且提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化物 蚀刻 溶液 组合 | ||
【主权项】:
一种用于含镓的金属氧化物层的蚀刻溶液组合物,所述蚀刻溶液组合物包括:重量百分比为5%~20%的过硫酸盐、重量百分比为1%~15%的无机酸或无机酸的盐以及形成所述组合物的余量的水。
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