[发明专利]像素结构及像素结构的制作方法有效
申请号: | 201210323690.5 | 申请日: | 2012-09-04 |
公开(公告)号: | CN102856322A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 张维仁;罗婉瑜;陈勃学 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/786;H01L21/77 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;鲍俊萍 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种像素结构及其制造方法。像素结构包括一主动组件、一栅绝缘层、一介电绝缘层、一电容电极、一保护层以及一像素电极。主动元件包括一栅极、一半导体通道层、一源极以及一汲极。介电绝缘层覆盖住半导体通道层,其中介电绝缘层的介电系数高于栅绝缘层的介电系数。电容电极重迭于漏极以使电容电极、漏极以及夹于两者间的介电绝缘层构成一储存电容结构。保护层配置于介电绝缘层上并且电容电极位于保护层与介电绝缘层之间。像素电极配置于保护层上并连接于主动元件的漏极。本发明的像素结构不需大面积的电容电极就具有足够的储存电容值,而有助于提升像素结构的显示开口率。 | ||
搜索关键词: | 像素 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
一种像素结构,配置于一基板上,其特征在于,该像素结构包括:一主动元件,包括一栅极、一半导体通道层、一源极以及一漏极,该源极与该漏极在该栅极上方相隔一间距使该栅极具有至少一部分不重迭于该源极以及该漏极,该半导体信道层至少配置于该间距中;一栅绝缘层,位于该栅极与该半导体通道层之间,且该源极以及该漏极位于该栅绝缘层与该半导体通道层之间;一介电绝缘层,配置于该基板上,覆盖住该半导体通道层,其中该介电绝缘层的介电系数高于该栅绝缘层的介电系数;一电容电极,配置于该介电绝缘层上,且该电容电极重迭于该漏极以使该电容电极、该漏极以及夹于两者间的该介电绝缘层构成一储存电容结构;一保护层,配置于该介电绝缘层上并且该电容电极位于该保护层与该介电绝缘层中;以及一像素电极,配置于该保护层上并连接于该主动元件的该漏极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210323690.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的