[发明专利]光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法有效

专利信息
申请号: 201210332912.X 申请日: 2012-09-10
公开(公告)号: CN102853781A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 彭小强;戴一帆;舒勇;胡皓;石峰;宋辞 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 湖南兆弘专利事务所 43008 代理人: 赵洪;杨斌
地址: 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法,包括以下步骤:首先测量试验工件的初始面形数据,并进行滤波处理;再对试验工件进行光顺,测量光顺后的最终面形数据并进行滤波处理;将滤波后初始面形数据与最终面形数据作差,得到滤波后差异面形数据;从滤波后初始面形数据和差异面形数据中选择特定面形数据,并计算其相关系数;如果相关系数在给定值以上,则依据光顺参数化模型开始计算光顺系数;否则该数据弃之不用并重新进行前述操作;根据得到的光顺系数与初始面形误差值进行数据拟合,得到光顺效率直线;据此即可评价抛光盘的光顺能力。
搜索关键词: 光学 工用 抛光 能力 评价 方法
【主权项】:
一种光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法,包括以下步骤:(1)初始面形数据预处理:首先取用一试验工件,测量该试验工件的初始面形数据,然后对初始面形数据进行滤波处理,滤除其中的低频误差成分,得到滤波后初始面形数据;(2)最终面形数据预处理:采用待评价其光顺能力的抛光盘对上述试验工件进行光顺,光顺后测量该试验工件的最终面形数据,然后对最终面形数据进行滤波处理,滤除其中的低频误差成分,得到滤波后最终面形数据;(3)获取滤波后差异面形数据:将上述步骤(1)中获得的滤波后初始面形数据与上述步骤(2)中获得的滤波后最终面形数据作差,得到滤波后差异面形数据;(4)相关系数获取:从上述的滤波后初始面形数据和滤波后差异面形数据中选择与所述抛光盘的抛光面大小一致的某一区域的特定面形数据,并计算该特定面形数据的相关系数;(5)相关系数判定:如果得到的相关系数在给定值以上,则说明上述的某一区域中有光顺行为发生,因而进入下述的步骤(6);如果得到的相关系数小于给定值,则该区域中的特定面形数据弃之不用,然后返回步骤(4)在另一未知区域中重新进行步骤(4)后的工艺操作;(6)计算光顺系数:将从上述某一区域中获取得到的滤波后初始面形数据、滤波后最终面形数据及滤波后差异面形数据代入光顺参数化模型,并计算该区域中的光顺系数SF1;(7)循环操作:重新返回至步骤(4)在另一未知区域中重新进行步骤(4)~步骤(6)的工艺操作,直至选择的区域遍历整个试验工件的光学表面,并最终计算得到一系列光顺系数SF2、……、SFn,其中n为大于或等于2的整数;(8)绘制光顺直线:将上述步骤中得到的各光顺系数SF1、……、SFn及对应于工件表面特定区域的初始面形误差值RMS1、……、RMSn进行数据拟合,绘制得到所述抛光盘的光顺效率直线,根据该光顺效率直线即可评价所述抛光盘的光顺能力。
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