[发明专利]一种激光脉冲电镀系统有效

专利信息
申请号: 201210342253.8 申请日: 2012-09-14
公开(公告)号: CN102817051A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 杨盈莹;林学春;于海娟 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: C25D5/00 分类号: C25D5/00;C25D5/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种激光脉冲电镀系统,包括:脉冲激光器、脉冲发生控制器、衰减器、电子快门、扩束器、反射镜、CCD实时监测系统、光学振镜、聚焦物镜、电解池、三维移动台和脉冲电镀电源。本发明采用脉冲电镀电源和脉冲激光器,结合脉冲电镀电源电镀和脉冲激光电镀的工作方式,超越高频脉冲电镀电源的性能限制,控制脉冲激光器发出的激光脉冲与脉冲电镀电源发出的电脉冲相匹配,提高镀层的加工效率和分辨率。应用领域包括激光电镀、激光刻蚀。
搜索关键词: 一种 激光 脉冲 电镀 系统
【主权项】:
一种激光脉冲电镀系统,其特征在于,包括:脉冲激光器(1),用于提供激光电镀用的激光脉冲;脉冲发生控制器(2),用于控制脉冲激光器(1)发出的激光脉冲与脉冲电镀电源(13)发出的电脉冲的发生时间,实现激光脉冲与电脉冲之间互相匹配或有一定的时间延迟;衰减器(3),用于控制脉冲激光器(1)的功率,防止损伤电镀材料;电子快门(4),用于控制激光脉冲的关断;扩束器(5),用于扩展激光束的直径,减小激光束的发散角;反射镜(6),用于改变激光束的传播方向,将激光束传播至待处理样品基底(10);CCD实时观察系统(7),用于实时观测处理样品基底(10)的电镀过程;光学振镜(8),用于控制激光束的扫描速度;聚焦物镜(9),用于将激光束聚焦在待处理样品基底(10)表面;电解池(11),用于放置电解液;三维移动台(12),用于移动在电解池(11)中待处理样品基底(10)的位置;脉冲电镀电源(13),用于提供电解池(11)正负极电压的电压。
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