[发明专利]辐射源有效
| 申请号： | 201210347809.2 | 申请日： | 2012-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN103019038A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | H·G·希梅尔;J·F·迪克斯曼;D·兰贝特斯基 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种辐射源，包括贮存器、喷嘴、激光器以及正透镜。贮存器配置成保持一体积的燃料。喷嘴与贮存器流体连接并配置成沿着朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流。激光器配置成将激光辐射引导到在等离子体形成位置处的所述流上，以在使用中产生用于产生辐射的等离子体。正透镜布置配置成朝向等离子体形成位置聚焦燃料流的轨迹的至少潜在的展度范围，透镜包括电场生成元件和/或磁场生成元件。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 | ||
【主权项】：
一种辐射源，包括：贮存器，配置成保持一体积的燃料；喷嘴，与贮存器流体连接并配置成沿着朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流；激光器，配置成将激光辐射引导到在等离子体形成位置处的所述流上，以在使用中产生用于产生辐射的等离子体；和正透镜布置，配置成朝向等离子体形成位置将燃料流的轨迹的至少潜在的展度范围聚焦，所述透镜包括电场生成元件和/或磁场生成元件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210347809.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种风力发电机故障诊断系统
- 下一篇：产品高温防水性能测试设备
