[发明专利]普那霉素ⅠA晶体在审
| 申请号： | 201210347841.0 | 申请日： | 2012-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN103665105A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 毛文华;吴亚铭;黄志明;周苗 | 申请（专利权）人： | 浙江医药股份有限公司新昌制药厂 |
| 主分类号： | C07K7/06 | 分类号： | C07K7/06;A61K38/08;A61P31/04 |
| 代理公司： | 北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 11042 | 代理人： | 付晓青;王厚莉 |
| 地址： | 312500*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了普那霉素IA晶体及其制备方法和用途、以及含有治疗有效量的所述普那霉素IA晶体的药物组合物，所述晶体在X射线衍射图谱中的下述2θ角有特征峰：3.9、9.0、14.5、14.9、16.0、16.4、16.8、18.3、20.0、24.2，并且所述晶体的熔点为276℃～285℃。本发明的普那霉素IA晶体纯度高、稳定性好，有助于提高普那霉素的生物利用度。 | ||
| 搜索关键词： | 霉素 晶体 | ||
【主权项】：
1.一种如式I所示的普那霉素IA晶体，![]()
其中，其具有与X射线粉末晶体衍射图谱图1基本相同的特征。
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