[发明专利]一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置及方法有效

专利信息
申请号: 201210350149.3 申请日: 2012-09-18
公开(公告)号: CN102890430A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 吴俊 申请(专利权)人: 天津芯硕精密机械有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 300457 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置及方法,包括有曝光光源,反光镜倾斜设置在曝光光源的前方光路上,反光镜的反射光路上依次设置光学透镜组、图形发生器,图形发生器的下方依次设置投影镜头、功率探头,功率探头的信号输出端与功率显示器连接;通过把可编程图形发生器分成若干个等面积的小区域,在每个小区域分别投影白图,测试其对应的功率值,计算得出直写曝光机曝光面的功率均匀性,如果曝光面的功率均匀性不理想,可以通过调整照明模块中的反光镜加以改善。采用本发明,曝光图形的质量,尤其是曝光图形的线宽一致性可以得到很大的提高。
搜索关键词: 一种 曝光 调整 功率 均匀 装置 方法
【主权项】:
一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置,其特征在于,主要包括有三个模块,分别为照明模块、投影曝光模块、功率探测模块,照明模块包括有曝光光源、光学透镜组和一个反光镜, 投影曝光模块包括有可编程的图形发生器和投影镜头,功率探测模块包括有功率探头和功率显示器,反光镜倾斜设置在曝光光源的前方光路上,反光镜的反射光路上依次设置光学透镜组、图形发生器,图形发生器的下方依次设置投影镜头、功率探头,功率探头的信号输出端与功率显示器连接。
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