[发明专利]抛光含钨基材的方法有效
| 申请号： | 201210351724.1 | 申请日： | 2008-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN102863902A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特.瓦卡西;迪内施.卡纳;亚历山大.辛普森 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及抛光含钨基材的方法，具体地说，本发明提供一种通过使用包含钨蚀刻剂、钨蚀刻抑制剂及水的组合物对含钨基材进行化学机械抛光的方法，其中该钨抛光抑制剂为包含至少一种含有至少一个含氮杂环或叔氮或季氮原子的重复基团的聚合物、共聚物或聚合物共混物。本发明还提供一种特别适于抛光含钨基材的化学机械抛光组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 基材 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光组合物，其包含：(a)铁离子，(b)钨蚀刻抑制剂，其中该钨蚀刻抑制剂为包含至少一种含有至少一个含氮杂环或叔氮或季氮原子的重复基团的聚合物、共聚物或聚合物共混物，且其中该钨蚀刻抑制剂以1ppm至1000ppm的量存在，(c)二氧化硅，(d)丙二酸，及(e)水。
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