[发明专利]检测方法无效
申请号: | 201210352665.X | 申请日: | 2012-09-20 |
公开(公告)号: | CN103681394A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 赖允晋;徐秋田;谢宜昇 | 申请(专利权)人: | 惠特科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人: | 张雅军 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种检测方法,适用于量测胶膜上已彼此劈裂的数个晶粒,包含以下步骤:提供一个标准间距范围与一个临界间距范围,并量测及记录所述晶粒彼此间的间距,再将所记录的所述晶粒的间距与所提供的间距范围比较,以判断是否依序对所述晶粒进行检测。本发明在检测前,预先量测并记录所述晶粒彼此间的间距,并利用标准间距范围与临界间距范围而可选择对间距差异过大的相邻晶粒不检测或整片晶粒不检测,以减少检测误差,若要检测,也能考虑相邻晶粒之间的间距,而能对晶粒的光性检测结果进行补正以提高检测结果的正确性,因此,本发明有助于获得更正确的检测数据。 | ||
搜索关键词: | 检测 方法 | ||
【主权项】:
一种检测方法,适用于量测黏着于胶膜上且已彼此劈裂的数个晶粒,其特征在于:该检测方法包含以下步骤:(A)提供一个针对晶粒间距的标准间距范围,及一个大于该标准间距范围的临界间距范围;(B)量测并记录所述晶粒彼此间的间距;(C)将所记录的所述晶粒彼此间的间距分别与该标准间距范围及该临界间距范围进行比较;及(D)依比较结果判断是否对所述晶粒进行检测;其中,步骤(A)与步骤(B)的顺序可互换。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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