[发明专利]成膜装置和基板处理装置

摘要

本发明提供成膜装置和基板处理装置。该成膜装置具有在周向上互相分隔开的处理区域，在处理区域之间配置分离气体喷嘴，自分离气体喷嘴分别供给分离气体而将处理区域相互间分隔开。此时，在比分离气体喷嘴靠旋转台的旋转方向下游侧的位置设有用于在其与旋转台的上表面之间形成狭窄的空间的第1顶面。另外，在该第1顶面中的靠旋转台的旋转方向上游侧的部分设有比第1顶面位置高的第2顶面。

主权项

一种成膜装置，其在真空容器内反复多次进行依次向基板供给多种处理气体的循环而形成薄膜，其中，该成膜装置包括：旋转台，其设置在上述真空容器内，在旋转台上表面上，在周向上具有用于载置基板的基板载置区域，该旋转台使该基板载置区域公转；多个处理气体供给部，其用于向在该旋转台的周向上互相分隔开的处理区域分别供给互不相同的处理气体；分离部，其配置有分离气体喷嘴，并从上述旋转台的中央侧延伸到外周侧，用于向形成在各处理区域之间的分离区域供给分离气体而使各处理区域的气氛分离开；排气口，其设置在上述旋转台的外缘侧，用于对上述真空容器内的气氛进行真空排气；上述分离部包括：第1顶面，其设置在比上述分离气体喷嘴靠上述旋转台的旋转方向下游侧的位置，在该第1顶面与上述旋转台的上表面之间从该旋转台的中央侧到外周侧形成有狭窄的空间，用于阻止处理气体进入到该狭窄的空间中；第2顶面，其设置在比上述分离气体喷嘴靠上述旋转台的旋转方向上游侧的位置，从上述旋转台的中央侧到外周侧形成为比上述第1顶面位置高；上述排气口以与气体滞留空间相连通的方式设置，该气体滞留空间为上述第2顶面和上述旋转台之间的区域。