[发明专利]有机电致发光显示装置的制造方法无效
申请号: | 201210362751.9 | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN103035851A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 由徳大介;佐藤信彦 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L21/77 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种有机电致发光显示装置的制造方法。提供使得能够制造抑制显示故障的高分辨率有机电致发光显示装置的有机电致发光显示装置的制造方法。有机电致发光显示装置的制造方法包括各自包含至少包含发光层的有机化合物层的多个有机电致发光元件,该方法包括:在基板上形成有机化合物层;在有机化合物层上依次形成中间层和抗蚀剂层;通过光刻方法去除抗蚀剂层的一部分;和通过干式蚀刻选择性地去除抗蚀剂层的所述一部分被去除了的区域中的中间层和有机化合物层,遮光层具有阻挡具有大于或等于190nm且小于或等于360nm的波长的光的功能。 | ||
搜索关键词: | 有机 电致发光 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种有机电致发光显示装置的制造方法,所述有机电致发光显示装置包括多个有机电致发光元件,所述多个有机电致发光元件各自包含有机化合物层,所述有机化合物层至少包含发光层,该方法包括:在基板上形成有机化合物层;在所述有机化合物层上依次形成中间层和抗蚀剂层;通过光刻方法去除抗蚀剂层的一部分;以及通过干式蚀刻选择性地去除抗蚀剂层的所述一部分被去除了的区域中的中间层和有机化合物层,其中,中间层至少包含遮光层,并且,遮光层具有阻挡具有大于或等于190nm且小于或等于360nm的波长的光的功能。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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