[发明专利]用于沉积的掩模及其制造方法在审
| 申请号： | 201210387327.X | 申请日： | 2012-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN103132015A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 朱星中;许明洙;郑石源;张喆旼;李成用;赵喆来;韩仁爱 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;姚志远 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 沉积掩模包括沉积掩模主体和涂层。掩模主体包括穿透掩模主体的多个狭缝。涂层涂覆于所述掩模主体的整个表面上。涂层由与掩模主体的材料不同的材料制成，并且其磁力强于掩模主体的磁力。狭缝中的每一个均具有开口区，并且涂层的厚度控制开口区的宽度。光刻处理被用来形成多个狭缝。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积掩模，包括：掩模主体，包括穿透所述掩模主体的多个狭缝；以及涂层，通过原子层沉积涂覆于所述掩模主体的整个表面上。
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