[发明专利]一种光学基片镀膜前的清洗方法无效
| 申请号： | 201210387481.7 | 申请日： | 2012-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN103721969A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 龚选香;李刚;孙龙 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 马驰 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学基片镀膜前的清洗方法。该操作方法采用正庚烷代替乙醚和乙醇按一定比例配成混合清洗液，滴在光学清洗无尘布上对光学石英玻璃进行擦拭清洗。在高亮度光学检测灯的照射下，观察基片的去污情况，从而达到基片清洁的目的。用此方法清洗镀膜前的光学基片可以提高光学薄膜的附着力和增强薄膜的抗激光损伤阈值，提高光学薄膜的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 镀膜 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种光学基片镀膜前的清洗方法，其特征在于：采用正庚烷和乙醇的混合液作为光学基片清洗液，于光学基片镀膜前对光学基片进行擦拭清洗。
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