[发明专利]对称等离子体处理室

摘要

本发明提供一种对称等离子体处理室。本发明实施例提供允许极其对称的电、热和气体传导通过室的室设计。通过提供这种对称，形成在室内的等离子体自然地在设置在室的处理区域中的衬底的表面上具有改进的均匀性。这种改进的对称性以及其他室的附加情况(诸如提供操纵上下电极之间以及在气体入口和被处理的衬底之间的间隙的能力)相较于传统的系统允许对等离子体处理和均匀性更好的控制。

主权项

一种等离子体处理设备，包括：盖组件和室体，其围成处理区域，所述处理区域位于上衬里的底壁和网衬上方，所述网衬耦合到所述上衬里的所述底壁；衬底支撑组件，其设置在所述室体中；排气组件，其在所述室体内限定抽真空区域，其中，所述室体包括围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称设置并将所述处理区域与所述抽真空区域流体连接的多个通道，其中所述衬底支撑组件包括下电极和设置在中心区域中的支撑基座，所述中心区域与所述处理区域和抽真空区域流体地密封，其中所述中心轴线是竖直轴线；以及多个进出管，所述多个进出管贯穿所述室体的侧面而定位以对所述中心区域提供缆线行进，所述多个进出管从设置在所述支撑基座下方的所述室体水平地延伸，并且所述多个进出管布置成以轮辐图案围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称地间隔开，其中多个抽真空通道中的每一个抽真空通道在多个抽真空通路中的对应的一个抽真空通路下方延伸，所述多个抽真空通路定位在所述上衬里的底壁中，其中所述多个抽真空通道中的每一个抽真空通道在所述多个进出管中的两个进出管之间延伸，并且其中每一个进出管在竖直方向上与所述处理区域间隔开。