[发明专利]校正试样和荧光X射线分析装置与荧光X射线分析方法有效
| 申请号： | 201210392351.2 | 申请日： | 2012-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN103048346A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 小林宽 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种校正试样和荧光X射线分析装置与荧光X射线分析方法，提供液体试样的荧光X射线分析用的校正试样等，其可长期使用，且可进行正确的偏差校正。本发明的校正试样为固体的校正试样，该校正试样用于在液体试样的荧光X射线分析中，校正分析对象金属元素的测定X射线强度的伴随时间的变化，其中，包含分析对象金属元素的金属层与厚度为1mm以上的轻元素层重合地形成，该轻元素层中，氢、硼、碳、氮、氧和氟中的至少1种轻元素具有最大摩尔份数，在上述金属层中，与轻元素层相对的那一面的相反侧表面为分析面。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 试样 荧光 射线 分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种校正试样，其为固体校正试样，该校正试样用于在液体试样的荧光X射线分析中，对分析对象金属元素的测定X射线强度的伴随时间的变化进行校正，其中，包含分析对象金属元素的金属层与厚度为1mm以上的轻元素层重合地形成，该轻元素层中，氢、硼、碳、氮、氧和氟中的至少1种轻元素具有最大摩尔份数，在上述金属层中，与上述轻元素层相对的那一面的相反侧表面为分析面。
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