[发明专利]化学气相沉积装置有效
申请号: | 201210396302.6 | 申请日: | 2012-10-17 |
公开(公告)号: | CN103774115B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 宋涛;萨尔瓦多;奚明;马悦;黄占超;刘强 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/30;C23C16/34;C30B25/02;C30B25/14;C30B29/40 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司11319 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201203 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种化学气相沉积装置。所述化学气相沉积装置包括反应腔、位于反应腔顶部的喷淋组件以及与所述喷淋组件相对设置的基座,所述基座可以相对所述喷淋组件旋转,所述喷淋组件包括第一进气管路以及第二进气管路,用于分别将第一气体以及第二气体传输到气体分配板,所述气体分配板具有面向所述基座的排气面,所述排气面具有若干凹槽,用以收容气体并安装板部件,所述板部件具有若干出气孔,所述出气孔排列成若干列,所述若干列中至少有两列的出气孔排列位置部分错开,所述出气孔用以排出所述第一气体或第二气体中的一种或多种。本发明的化学气相沉积装置结构简单,制造成本较低,且易于拆分清洁。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积装置,包括:反应腔、位于所述反应腔顶部的喷淋组件以及与所述喷淋组件相对设置的基座,所述基座可以相对所述喷淋组件旋转,其特征在于,所述喷淋组件包括第一进气管路以及第二进气管路,用于分别将第一气体以及第二气体传输至气体分配板,所述气体分配板具有排气面,所述排气面具有若干凹槽,用以收容气体并安装板部件,所述板部件具有若干出气孔,所述出气孔排列成若干列,所述若干列中至少有两列的出气孔排列位置部分错开,所述出气孔用以排出所述第一气体或第二气体中的一种或多种,所述气体分配板的顶面具有多个环形凹部,环形凹部与所述多个凹槽分别相连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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