[发明专利]一种液态强力抛光剂无效
| 申请号： | 201210400229.5 | 申请日： | 2012-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN103509469A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 连新兰 | 申请（专利权）人： | 连新兰 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 450007 河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及研磨及抛光技术，特别涉及一种液态强力抛光剂。按重量百分比计该抛光液含有：（1）MIRANOLC2M-SF浓缩表面活性剂10-20%，（2）胺缩合物15-20%，（3）乙二胺四乙酸（EDTA）3-5%，（4）水42-62%，（5）碳化硅超细抛光粉10-30%。其制做方法为：将（1）MIRANOLC2M-SF浓缩表面活性剂加入到（4）水42-62%搅拌溶解后，加入（2）胺缩合物15-20%和（3）乙二胺四乙酸（EDTA）3-5%搅拌，静置5-10小时后，再加入（5）碳化硅超细抛光粉充分搅拌。本发明的液态强力抛光剂在抛光过程中具有不易产生有害化合物、集物理抛光与化学抛光为一体、抛光速度快、产品用本发明的抛光剂抛光后的光泽度强、抛光效果好、容易清洗、制作方便、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 液态 强力 抛光 | ||
【主权项】：
一种液态强力抛光剂，其特征在于该抛光剂组份为：（1）MIRANOL C2M‑SF浓缩表面活性剂10‑20%，（2）胺缩合物15‑20%，（3）乙二胺四乙酸（EDTA）3‑5%，（4）水42‑62%，（5）碳化硅超细抛光粉10‑30%，百分比均为重量百分比。
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