[发明专利]用于提高晶体生长速率的碳化硅晶体生长方法有效

专利信息
申请号: 201210411436.0 申请日: 2012-10-25
公开(公告)号: CN102899718A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 封先锋;陈治明;马剑平;蒲红斌;臧源 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 张瑞琪
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种用于提高晶体生长速率的碳化硅晶体生长方法,具体步骤包括:制作石墨柱;将碳化硅粉源装入坩埚中,然后将石墨柱插入碳化硅粉源中,再将坩埚工装后置入生长设备中;进行碳化硅粉源烧结并除杂;从坩埚中取出石墨柱;进行晶体生长操作。本发明解决了现有技术中碳化硅粉源利用率不高、晶体平均生长速率低的问题。
搜索关键词: 用于 提高 晶体生长 速率 碳化硅 方法
【主权项】:
一种用于提高晶体生长速率的碳化硅晶体生长方法,其特征在于,依次进行如下步骤:步骤1、将碳化硅粉源和石墨柱装入坩埚中,再将坩埚工装后置入生长设备中;步骤2、进行碳化硅粉源烧结并除杂;步骤3、从坩埚中取出石墨柱;步骤4、进行晶体生长操作。
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