[发明专利]硅铸锭用坩埚及其涂层制备方法有效

专利信息
申请号: 201210416152.0 申请日: 2012-10-26
公开(公告)号: CN103774209A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 李飞龙;许涛 申请(专利权)人: 阿特斯(中国)投资有限公司;阿特斯光伏电力(洛阳)有限公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06;C03C17/23
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 杨林洁
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种硅铸锭用坩埚及其涂层制备方法。坩埚包括坩埚本体、覆盖在坩埚本体内壁上的氧化铝涂层和覆盖在氧化铝涂层上的氮化硅涂层。方法包括:量取一定量纯水,将其置于一超声水浴容器内的烧杯中,调整水浴温度为35℃至40℃;称取一定量氧化铝微粉并加入烧杯中,然后开启超声水浴容器进行搅拌;30分钟后将搅拌好的氧化铝浆料刷制在内壁温度为40℃至45℃的坩埚本体内壁上,待氧化铝浆料完全干燥再量取一定量纯水,并将其置于烧杯中,调整水浴温度为35℃至40℃;称取一定量氮化硅粉体并加入所述烧杯中,开启超声水浴容器进行搅拌;30分钟后将搅拌好的氮化硅浆料喷涂至氧化铝涂层上;将喷涂完成的坩埚置于温度为200℃的烧结炉内进行烘干烧结。
搜索关键词: 铸锭 坩埚 及其 涂层 制备 方法
【主权项】:
一种硅铸锭用坩埚,包括坩埚本体,其特征在于:所述坩埚还包括覆盖在所述坩埚本体内壁上的由纯水和氧化铝微粉制成的氧化铝涂层和覆盖在所述氧化铝涂层上的由纯水和氮化硅粉体制成的氮化硅涂层。
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