[发明专利]基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统有效

专利信息
申请号: 201210417650.7 申请日: 2012-10-26
公开(公告)号: CN102937512A 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: 宁禹;许晓军;张烜喆;杨轶;习锋杰;齐恩宇;陆启生;刘泽金 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 湖南兆弘专利事务所 43008 代理人: 赵洪;周长清
地址: 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统,它的第一哈特曼探测器和第二哈特曼探测器呈对称状布置于待测分光镜的两侧,高能激光器发出的高功率激光入射至待测分光镜前表面后,一部分光能量被待测分光镜反射至离轴聚焦反射镜,然后被功率计接收;同步控制器发出同步触发信号控制高能激光器开启、第一哈特曼探测器和第二哈特曼探测器进行采集;第一哈特曼探测器和第二哈特曼探测器测得的子孔径偏移量数据被实时传送给计算机,通过计算机分析得到待测分光镜的反射像差和透射像差随高能激光功率和辐照时间的变化特性。本发明具有结构简单紧凑、操作简便、能够提高高能激光分光镜膜系的测量分辨率和实时性等优点。
搜索关键词: 基于 双哈特曼 探测器 分光镜 测量 系统
【主权项】:
1.一种基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统,其特征在于:它包括第一哈特曼探测器(1)、第二哈特曼探测器(2)、高能激光器(3)、离轴聚焦反射镜(5)、功率计(6)、同步控制器(7)和计算机(8),所述第一哈特曼探测器(1)和第二哈特曼探测器(2)呈对称状布置于待测分光镜(4)的两侧,所述高能激光器(3)发出的高功率激光入射至待测分光镜(4)前表面后,一部分光能量被待测分光镜(4)反射至离轴聚焦反射镜(5),然后被功率计(6)接收;所述同步控制器(7)发出同步触发信号控制高能激光器(3)开启、第一哈特曼探测器(1)和第二哈特曼探测器(2)进行采集;所述第一哈特曼探测器(1)和第二哈特曼探测器(2)测得的子孔径偏移量数据被实时传送给计算机(8),通过所述计算机(8)分析得到待测分光镜(4)的反射像差和透射像差随高能激光功率和辐照时间的变化特性。
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