[发明专利]一种三氯氢硅的等离子体制备装置在审
申请号: | 201210418382.0 | 申请日: | 2012-10-29 |
公开(公告)号: | CN103787337A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 王红卫 | 申请(专利权)人: | 王红卫 |
主分类号: | C01B33/107 | 分类号: | C01B33/107 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 孙艳 |
地址: | 226000 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种三氯氢硅的等离子体制备装置。包括水冷内电极,介质阻挡结构,及风冷外电极结构。等离子体放电结构包括内电极的水冷结构以及外电极的风冷结构,外电极采用网状电极,提高放电稳定性及均匀性,放电电源采用高压电源。本发明所述方法及其装置完成对四氯化硅的氢化,生成三氯氢硅,具有处理成本低、工作效率高、无环境污染等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 三氯氢硅 等离子体 制备 装置 | ||
【主权项】:
一种三氯氢硅的等离子体制备装置,其特征在于,包括等离子体氢化装置,所述等离子体氢化装置包括水冷内电极、介质阻挡层、放电电源以及风冷外电极,所述外电极采用提高放电稳定性及均匀性的网状电极,所述放电电源采用高压电源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王红卫,未经王红卫许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210418382.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。