[发明专利]一种ON CELL的实现方法有效

专利信息
申请号: 201210421219.X 申请日: 2012-10-29
公开(公告)号: CN102981297A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 周朝平;林钟泉;肖新煌 申请(专利权)人: 晟光科技股份有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;B32B37/06;G06F3/041
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 233000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种ON CELL的实现方法,包括有液晶显示屏、FPC、带有触摸功能的导电薄膜,制作带有触摸功能的导电薄膜,带有触摸功能的导电薄膜的制作方法是:在薄膜上真空溅射ITO层,涂布光刻胶,对光刻胶进行曝光,对光刻胶显影并硬化,蚀刻ITO薄膜层,去除光刻胶,形成ITO电极,制成带有触摸功能的导电薄膜;将FPC通过热压的方式粘贴在带有触摸功能的导电薄膜上;再将粘贴好的带有触摸功能的导电薄膜粘贴在液晶屏上,FPC的一个侧面紧贴在液晶显示屏的一个侧面上。本发明在液晶屏的上面使用带有触摸功能的导电薄膜,使得液晶屏和触摸屏部件实现一体化且不影响显示功能;使得产品更轻更薄并且能够降低材料和人工成本。
搜索关键词: 一种 on cell 实现 方法
【主权项】:
一种ON CELL的实现方法,其特征在于,包括有液晶显示屏、FPC、带有触摸功能的导电薄膜,具体方法包括以下步骤:    (1)制作带有触摸功能的导电薄膜:    带有触摸功能的导电薄膜的制作方法包括以下步骤:1)、在薄膜上真空溅射ITO层,真空度:0.01~0.5Pa,温度:220~300℃,ITO薄膜层的厚度10nm~20nm;2)、涂布光刻胶,将蚀刻的ITO薄膜层覆盖,光刻胶的厚度1600~2000nm,均匀性5%以内,预烘温度:80~90℃;3)、对光刻胶进行曝光,即在光刻胶上光刻电极图形,曝光条件为:紫外光波长:365nm,光通量:100~120mj,ITO电极图案的光罩是铬版,距离基板的尺寸100um~200um;4)、对光刻胶显影并硬化,采用NaOH,浓度0.1~0.08MOL/L,温度:20~35℃,时间50秒~120秒,硬化温度:100~120℃,时间30~35分钟;5)、蚀刻ITO薄膜层,形成ITO薄膜层电极图形,蚀刻使用材料:HCL60%~65%+HO2 40%~35%,温度:40~45℃,时间:120~220秒;6)、去除光刻胶,形成ITO电极,使用材料:NaOH,浓度2.0~1.5MOL/L,温度:30~35℃,时间100秒~120秒,最后用纯水漂洗;7)制成带有触摸功能的导电薄膜;    (2)将FPC通过热压的方式粘贴在带有触摸功能的导电薄膜上;(3)再将粘贴好的带有触摸功能的导电薄膜粘贴在液晶屏上,FPC的一个侧面紧贴在液晶显示屏的一个侧面上。
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