[发明专利]转印基板和制造显示设备的方法有效
| 申请号： | 201210422878.5 | 申请日： | 2009-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN102909980A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 上田贤司;肥后智之 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/382 | 分类号： | B41M5/382;H01L21/77;H01L51/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李颖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种转印基板，包括用于热转印的支撑基板和转印层。转印层设置在支撑基板上，包括主体材料和发光掺杂物材料，主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度。升华温度之差被设置在预定范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 转印基板 制造 显示 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种转印材料，包含：用于热转印的支撑材料；和设置在支撑材料上的转印层，所述转印层包括主体材料和发光掺杂物材料，所述主体材料和发光掺杂物材料都具有转印温度，转印温度之差被设置在预定范围内。
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