[发明专利]地氯雷他定衍生物及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 201210424506.6 | 申请日： | 2012-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN102924430A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 刘登科;穆帅;刘颖;解晓帅;张大帅;刘昌孝 | 申请（专利权）人： | 天津药物研究院 |
| 主分类号： | C07D401/04 | 分类号： | C07D401/04;A61K31/4545;A61P9/12;A61P15/00;A61P15/06;A61P5/38;A61P25/24;A61P9/04;A61P1/16;A61P3/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300193 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本发明涉及一类地氯雷他定衍生物及其制备方法和用途。具体地，涉及一类具有式I结构的地氯雷他定衍生物及其药学上可接受的盐及其制备方法，式I结构的地氯雷他定衍生物及其药学上可接受的盐作为活性有效成分的药物组合物及其在预防或治疗与精氨酸加压素V1a受体、精氨酸加压素V1b受体、精氨酸加压素V2受体、交感神经系统或肾素-血管紧张素-醛固酮系统相关的疾病中的用途。 |
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| 搜索关键词： | 衍生物 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.具有式I结构的化合物及其药学上可接受的盐：![]()
其中，R1为氢、卤素、羟基、低级烷基、卤素取代的低级烷基、氨基、硝基、烷氧基、低级烷基取代基的氨基；R2为低级烷基、卤素或者羟基取代的低级烷基、![]()
基团；其中R3为氢、卤素、羟基、低级烷基、卤素取代的低级烷基、氨基、硝基、烷氧基、低级烷基取代基的氨基；R3对苯环的取代可以为单取代或者多取代；X为CO或者SO2。
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