[发明专利]一种用于电阻抗映射成像的感兴趣目标体立体定位方法有效
| 申请号： | 201210428535.X | 申请日： | 2012-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN102894977A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 季振宇;董秀珍;史学涛;尤富生;付峰;刘锐岗;王威;王楠;马航 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军第四军医大学 |
| 主分类号： | A61B5/053 | 分类号： | A61B5/053;A61B5/05 |
| 代理公司： | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人： | 李郑建 |
| 地址： | 710032 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于电阻抗映射成像的感兴趣目标体立体定位方法，该方法在实施时首先基于电磁场计算模型计算分析，建立感兴趣目标体深度近似求解公式；其次在电阻抗映射成像实际测量中，根据灰度图像确定感兴趣目标体的二维空间位置；在此基础上进一步建立利用电阻抗映射检测成像实测数据等效表征深度求解公式中计算参数的方法，并最终求解获得感兴趣目标体的立体定位信息。本发明的特点是在分析二维灰度图像特征的基础上，通过深入挖掘检测信息，可对感兴趣目标体的深度进行测算，实现了对感兴趣目标体的立体定位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 阻抗 映射 成像 感兴趣 目标 立体 定位 方法 | ||
【主权项】：
一种用于电阻抗映射成像的感兴趣目标体立体定位估测方法，其特征在于，包括以下步骤：1）基于电磁场计算模型计算分析，建立感兴趣目标体深度近似求解公式；2）在电阻抗映射成像实际测量中，根据灰度图像确定感兴趣目标体的二维空间位置；3）建立电阻抗映射成像实际测量数值与感兴趣目标体深度近似求解公式中参数的对应关系；4）将感兴趣目标体的空间二维信息与目标体的深度信息结合，获得感兴趣目标体的空间立体定位参数。
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