[发明专利]粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法有效
| 申请号： | 201210429321.4 | 申请日： | 2012-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103083828A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 西内秀晶;藤高伸一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾贤伟;曹鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法，能够不降低照射剂量一致度地提高射束利用效率。该粒子线照射系统具备：将离子束（10）加速后射出的同步加速器（13）、照射从同步加速器（13）射出的离子束（10）的照射装置（30），从照射装置（30）多次进行一个单位的照射，其特征在于，具备：测量同步加速器（13）内的积蓄射束电荷量（Qmeas）的积蓄射束电荷量测量单元（15）；目标电流设定单元，其根据通过积蓄射束电荷量测量单元测量出的积蓄射束电荷量（Qmeas），设定从同步加速器（13）射出的目标射束电流值（Ifb）；出射射束电流修正控制单元，其根据由上述目标电流设定单元求出的出射射束电流的目标值（Ifb）控制射束电流。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 照射 系统 以及 带电 粒子束 修正 方法 | ||
【主权项】：
一种粒子线照射系统，具备将离子束加速后射出的同步加速器、照射从上述同步加速器射出的上述离子束的照射装置，从上述照射装置多次进行一个单位的照射，其特征在于，包括：积蓄射束电荷量测量单元，其测量上述同步加速器内的积蓄射束电荷量；目标电流设定单元，其根据由上述积蓄射束电荷量测量单元测量出的积蓄射束电荷量，设定从上述同步加速器射出的目标射束电流值；以及出射射束电流修正控制单元，其根据由上述目标电流设定单元求出的上述目标射束电流值，控制射束电流。
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