[发明专利]一种掩膜板及其制备方法有效
申请号: | 201210430683.5 | 申请日: | 2012-11-01 |
公开(公告)号: | CN102955354A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 徐向阳;邓立赟;金玟秀;杜雷;王凯;张敏 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 230011 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜板,包括掩膜板本体,掩膜板本体具有的透光区具有由光刻胶制备而成的透光膜,透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向逐渐增大。透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向逐渐增大,降低了透光区的光向非透光区方向的衍射效应,同时,透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向具有一个渐变的过程,而透光区中心区域的光向透光区的两侧位置衍射,所以,整个透光区射在基板表面光刻胶上的光线强度比较均匀,曝光显影时能够较好地控制基板上残留的光刻胶两侧的宽度,且光刻胶的两个侧边的均匀度较好,毛刺较少,提高了对得到结构的线宽的控制精度。本发明还提供了一种上述掩膜板的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,包括掩膜板本体,所述掩膜板本体具有非透光区和透光区,所述透光区具有由光刻胶制备而成的透光膜,所述透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向逐渐增大。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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