[发明专利]一种掩膜板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210430683.5 申请日: 2012-11-01
公开(公告)号: CN102955354A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 徐向阳;邓立赟;金玟秀;杜雷;王凯;张敏 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F1/54 分类号: G03F1/54
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种掩膜板,包括掩膜板本体,掩膜板本体具有的透光区具有由光刻胶制备而成的透光膜,透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向逐渐增大。透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向逐渐增大,降低了透光区的光向非透光区方向的衍射效应,同时,透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向具有一个渐变的过程,而透光区中心区域的光向透光区的两侧位置衍射,所以,整个透光区射在基板表面光刻胶上的光线强度比较均匀,曝光显影时能够较好地控制基板上残留的光刻胶两侧的宽度,且光刻胶的两个侧边的均匀度较好,毛刺较少,提高了对得到结构的线宽的控制精度。本发明还提供了一种上述掩膜板的制备方法。
搜索关键词: 一种 掩膜板 及其 制备 方法
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,包括掩膜板本体,所述掩膜板本体具有非透光区和透光区,所述透光区具有由光刻胶制备而成的透光膜,所述透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向逐渐增大。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210430683.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top