[发明专利]一种衬底的刻蚀方法有效
| 申请号： | 201210433685.X | 申请日： | 2012-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN103794488B | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 蒋中伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/3065 | 分类号： | H01L21/3065;H01L21/268;C23F1/02;B23K26/362 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出一种衬底的刻蚀方法，其包括以下步骤提供第一衬底；在第一衬底之上形成第一掩膜图形，第一掩膜图形穿透第一衬底；将第一衬底转移至第二衬底；以及通过第一衬底之上的第一掩膜图形对第二衬底进行刻蚀。采用本发明提出的衬底刻蚀方法，能够对难刻蚀材料进行深刻蚀，可以在刻蚀过程中提供足够的掩膜，在保证获得所需的刻蚀深度的同时，保证硬掩膜下的材料不被损伤。此外，该刻蚀方法更加简单方便，可靠性、安全性得到显著提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 衬底 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
一种衬底的刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：提供第一衬底，其中，所述第一衬底为Si衬底；在所述第一衬底之上形成第一掩膜图形，所述第一掩膜图形穿透所述第一衬底；将所述第一衬底转移至第二衬底；以及通过所述第一衬底之上的第一掩膜图形对所述第二衬底进行刻蚀，其中，刻蚀后的第二衬底具有与第一掩膜图形对应的图形，并达到所需的刻蚀深度，其中，刻蚀深度达到100um。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
