[发明专利]氧化硅用研磨剂、其用途以及研磨方法有效
| 申请号： | 201210434219.3 | 申请日： | 2006-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN102965025A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 西山雅也;深泽正人;阿久津利明;榎本和宏;芦泽寅之助;大槻裕人 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;王未东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种氧化硅用研磨剂、其用途以及研磨方法。本发明的氧化硅用研磨剂为用于研磨多晶硅上的氧化硅膜的研磨剂，包括研磨粒、多晶硅研磨抑制剂及水，所述多晶硅研磨抑制剂包括从聚乙烯吡咯烷酮或者含有乙烯吡咯烷酮的共聚物选出的聚乙烯吡咯烷酮类。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 研磨剂 用途 以及 研磨 方法 | ||
【主权项】：
一种氧化硅用研磨剂，其为用于研磨多晶硅上的氧化硅膜的研磨剂，包括研磨粒、多晶硅研磨抑制剂及水，所述多晶硅研磨抑制剂包括从聚乙烯吡咯烷酮或者含有乙烯吡咯烷酮的共聚物选出的聚乙烯吡咯烷酮类。
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