[发明专利]一种接近式光刻机有效
| 申请号： | 201210434929.6 | 申请日： | 2012-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN103792794A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李会丽;张俊;闻人青青;李志丹 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种接近式光刻机，包括：支架监测装置、载台和掩膜台；其中，所述支架监测装置安装在非生产状态下的所述载台的原位区的上方，用于对掩膜台和/或载台进行检查。所述支架监测装置能够实现载台和掩膜台共用，分别检查对载台和掩膜台，以解决前后不同彩色滤光片中，位置和形貌相同的共通缺陷和Mura是由掩膜台异常还是载台异常所引起的问题。本发明使得接近式光刻机功能更齐全，自动化程度更高，能够减少人员进出高洁净度的机台内部，充分利用了机台内部空间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接近 光刻 | ||
【主权项】：
一种接近式光刻机，其特征在于，包括：光学系统，支架监测装置、载台和掩膜台；其中，所述支架监测装置安装在非生产状态下的所述载台的原位区的上方，用于对掩膜台和/或载台进行检查；所述掩膜台在所述载台上方。
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