[发明专利]一种氧化铬薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201210441646.4 | 申请日： | 2012-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN103805960A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 李帅;何迪;刘晓鹏;于庆河;邱昊辰;王树茂;蒋利军 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘徐红 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种氧化铬薄膜的制备方法，采用金属有机化学气相沉积方法，包括如下步骤：采用氩气、氢气和氮气中一种或两种以上与水气的混合气体作为反应气体，将铬先驱体蒸气输运至沉积室，铬先驱体在所述反应气体作用下发生分解反应在衬底表面形成氧化铬薄膜，衬底副产物由反应气体载带排出反应室。采用该方法获得的氧化铬薄膜可完全排除薄膜中碳残留，薄膜表面平整、结构致密，膜基结合性能优异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化铬 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种氧化铬薄膜的制备方法，采用金属有机化学气相沉积方法，包括如下步骤：采用氩气、氢气和氮气中一种或两种以上与水气的混合气体作为反应气体，将铬先驱体蒸气输运至沉积室，铬先驱体在所述反应气体作用下发生分解反应在衬底表面形成氧化铬薄膜，衬底表面形成的副产物由反应气体载带出反应室。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
