[发明专利]一种等离子反应器及其处理方法有效
| 申请号： | 201210445691.7 | 申请日： | 2012-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103811260A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 叶如彬;黄智林 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H05H1/46 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子反应器及其处理方法。上述等离子反应器包括上下相对的电极，其中上电极周围围绕有一个点燃电极，上电极和点燃电极在面向反应腔内处理空间的一面均镀有一层绝缘材料层。在通入反应气体到等离子处理所需气压后点燃电极上连接到高压电源，产生微等离子。随后微等离子体扩散到整个反应内处理空间，反应器进入等离子处理阶段。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 反应器 及其 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子反应器，包括：一个反应腔，反应腔内包括一个基座,基座内包括一个下电极，与基座相对的一个上电极，上电极外周围围绕有一个绝缘材料环其特征在于：所述上电极和绝缘材料环的下表面镀有一层绝缘材料层，一个点燃电极植入所述绝缘材料环，所述点燃电极通过一个可控开关连接选择性的连接到一个高压电源。
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