[发明专利]一种酸性化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201210445896.5 | 申请日： | 2012-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN103806002A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 高嫄;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06;C23F3/03 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种酸性化学机械抛光液，包括研磨颗粒，水，氧化剂，以及磨削促进剂，该磨削促进剂能溶解在抛光液中并电离出金属离子。该抛光液可用于抛光存储器硬盘，并能够在对存储器硬盘基片进行经抛光的过程中防止形成微凸起、微凹坑和其它表面缺陷，同时保证较高的抛光速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 酸性 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种酸性化学机械抛光液，含有：研磨颗粒，水，氧化剂，其特征在于：所述抛光液还含有磨削促进剂，所述磨削促进剂能溶解在抛光液中并电离出金属离子。
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