[发明专利]一种盲孔加工方法有效
申请号: | 201210447393.1 | 申请日: | 2012-11-09 |
公开(公告)号: | CN103813653B | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 刘宝林;郭长峰;崔荣 | 申请(专利权)人: | 深南电路有限公司 |
主分类号: | H05K3/40 | 分类号: | H05K3/40 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙)44285 | 代理人: | 唐华明 |
地址: | 518000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种盲孔加工方法,包括采用控深钻工艺在电路板的外层铜箔上加工盲孔,所述外层铜箔的厚度为a,控深钻深度为b,其中,a大于3OZ,a减去b小于1OZ;采用蚀刻工艺继续加工所述盲孔,使所述盲孔贯穿所述外层铜箔;采用激光钻工艺将所述盲孔下方的介质层去除。本发明技术方案由于先采用控深钻工艺加工盲孔至一定深度,再采用蚀刻工艺继续加工;可以防止因控深钻精度差在介质层厚度小于4mil的情况下对铜箔层的伤害,并减轻侧蚀的影响,很容易加工出小孔径的合格盲孔。 | ||
搜索关键词: | 一种 加工 方法 | ||
【主权项】:
一种盲孔加工方法,其特征在于,包括:采用控深钻工艺在电路板的外层铜箔上加工盲孔,所述外层铜箔的厚度为a,控深钻深度为b,其中,a大于3OZ,a减去b小于1OZ,所述电路板为多层子板;采用蚀刻工艺继续加工所述盲孔,使所述盲孔贯穿所述外层铜箔;采用激光钻工艺将所述盲孔下方的介质层去除;所述盲孔的孔径不大于8mil。
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