[发明专利]用于处理平的衬底的设备和方法

摘要

在用于在连续的过程中处理平衬底的设备中，用液态处理介质填充槽容器直至一定液位。借助于运输装置，衬底能够通过引导元件在水平的运输平面中沿运输方向引导地运输通过处理介质，使得将衬底的至少一个处理侧浸入到处理介质中。处理介质能够借助于循环装置在槽容器中循环，循环装置包括抽吸装置和输出装置，处理介质通过抽吸装置从槽容器中抽出，抽出的处理介质又通过输出装置输出到槽容器中。迎流元件在槽容器中设置在低于运输平面的高度水平上，循环装置的输出装置包括输出喷嘴，输出喷嘴设置在低于迎流元件的高度水平上并设计成，使得输出喷嘴中的每个目的明确地朝向迎流元件的每个输出处理介质的主要部分。还说明用于处理平衬底的方法。

主权项

用于在连续的过程中处理平的衬底的设备，带有a）槽容器（6），所述槽容器用液态的处理介质（10）填充直到一定液位（8）；b）运输装置（16），借助于所述运输装置，衬底（4）能够通过引导元件（24）在水平的运输平面（20）中沿运输方向（18）引导地运输通过所述处理介质（10），使得所述衬底（4）的至少一个处理侧（26）浸入到所述处理介质（10）中；c）循环装置（32），所述处理介质（10）借助于所述循环装置能够在所述槽容器（6）中循环，并且所述循环装置包括抽吸装置（34）和输出装置（36），通过所述抽吸装置将处理介质（10）从所述槽容器（6）中抽出，抽出的所述处理介质（10）通过所述输出装置又输出到所述槽容器（6）中，其特征在于，d）迎流元件（24；51）在所述槽容器（6）中设置在低于所述运输平面（20）的高度水平上；e）所述循环装置（32）的所述输出装置（36）包括输出喷嘴（44），所述输出喷嘴设置在低于所述迎流元件（24；51）的高度水平上并且设计成，使得所述输出喷嘴（44）中的每一个都目的明确地朝向所述迎流元件（24；51）中的每一个输出所述处理介质（10）的主要部分（48）。