[发明专利]利用无缓冲剂制造工艺形成薄膜太阳能电池的方法有效
申请号: | 201210448358.1 | 申请日: | 2012-11-09 |
公开(公告)号: | CN103107216A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 李文钦;余良胜;严文材;邱永升 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种利用无缓冲剂制造工艺形成薄膜太阳能电池的方法。一种薄膜太阳能电池及其形成方法。该太阳能电池包括底部电极层、光吸收半导体层、以及顶部电极层。该吸收剂层包括p-型内部区和在该层的周界周围由p-型内部区的改性本征区域形成的n-型外部区,从而形成作为吸收剂层固有部分的有源n-p结。该顶部电极层经由在限定侧壁的吸收剂层中形成的划线电连接于底部电极层。该吸收剂层的n-型外部区沿着吸收剂层的水平顶部延伸并在划线的垂直侧壁上延伸,以增加太阳能电池中的可用n-p结的面积,从而改善太阳光转化效率。 | ||
搜索关键词: | 利用 缓冲剂 制造 工艺 形成 薄膜 太阳能电池 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜太阳能电池,包括:底部电极层,形成在衬底上;半导体吸收剂层,形成在所述底部电极层上,所述吸收剂层具有p‑型内部区和由所述p‑型内部区的改性本征部分形成的n‑型外部区,其中,n‑型区和p‑型区形成n‑p结,所述n‑p结是所述吸收剂层的固有部分;以及顶部电极层,形成在所述吸收剂层上,所述顶部电极层经由限定所述吸收剂层中的侧壁的划线电连接至所述底部电极层;其中,所述吸收剂层的所述n‑型外部区在所述划线中的侧壁上延伸。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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