[发明专利]一种高精密度快速痕量分析装置无效
申请号: | 201210457571.9 | 申请日: | 2012-11-14 |
公开(公告)号: | CN102967566A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 梁崇智;曾和平;闫明 | 申请(专利权)人: | 广东汉唐量子光电科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/31 | 分类号: | G01N21/31 |
代理公司: | 中山市科创专利代理有限公司 44211 | 代理人: | 谢自安 |
地址: | 528400 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种高精密度快速痕量分析装置,包括有能发出稳定时频域的探测光源的光纤光梳装置,以及让探测光源通过的装有待测样品的样品池和能发出与探测光源的重复频率不同的本振光源的本振光源装置,此外,还包括有多个能对光探测光源和本振光源进行透射和反射的半透半反镜和能将探测光源和本振光源进行反射的全反镜,将经过样品池和未经过样品池的探测光源和本振光源进行拍频的双光拍频装置和将拍频信号进行差分滤波放大的平衡探测装置。本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种在提高光谱成分的测量精度和灵敏度的同时实现了对物质光谱的无扫描快速成谱测量的高精密度快速痕量分析装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 精密度 快速 痕量 分析 装置 | ||
【主权项】:
一种高精密度快速痕量分析装置,其特征在于包括有能发出稳定时频域的探测光源的光纤光梳装置(1),以及让探测光源通过的装有待测样品的样品池(4)和能发出与探测光源的重复频率不同的本振光源的本振光源装置(5),此外,还包括有多个能对光探测光源和本振光源进行透射和反射的半透半反镜(2)和能将探测光源和本振光源进行反射的全反镜(3),将经过样品池(4)和未经过样品池(4)的探测光源和本振光源进行拍频的双光拍频装置(6)和将拍频信号进行差分滤波放大的平衡探测装置(7)。
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