[发明专利]一种补偿镜头畸变造成的套刻误差的方法有效
| 申请号： | 201210458271.2 | 申请日： | 2012-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN102955379B | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 袁伟 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人： | 吴世华,林彦之 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法。本发明的方法包括，制作基准光刻版版图；制作基准硅片；在需要补偿镜头畸变的光刻机上进行光刻；测量镜头畸变套刻误差；将镜头畸变套刻误差拟合为高阶多项式，绘出镜头畸变拟合曲线；利用镜头畸变拟合曲线对产品光刻版版图的图形位置进行重新计算、矫正和布图。本发明在现有传统光刻技术的基础上，基于光刻机镜头畸变的测量数据以及拟合曲线，对光刻版上的图形位置重新进行计算和矫正，从而对镜头畸变引起的硅片上的套刻误差进行补偿，提升光刻后的套刻精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 补偿 镜头 畸变 造成 误差 方法 | ||
【主权项】：
一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法，包括：步骤S01：制作基准光刻版版图；其特征在于，还包括：步骤S02：使用基准光刻机和所述的基准光刻版制作基准硅片；步骤S03：利用所述的基准光刻版和所述的基准硅片在需要补偿镜头畸变的光刻机上进行光刻；步骤S04：测量所述的需要补偿镜头畸变的光刻机与所述的基准光刻机之间的镜头畸变造成的套刻误差；步骤S05：将所述的镜头畸变造成的套刻误差拟合为高阶多项式，绘出补偿前的拟合曲线；步骤S06：利用所述的补偿前的拟合曲线对产品光刻版版图的图形位置进行重新计算、矫正和布图，从而对镜头畸变引起的硅片上的套刻误差进行补偿。
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