[发明专利]清洗制造有机EL器件的气相沉积掩模的方法及清洗液无效
| 申请号： | 201210459063.4 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103157619A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 李殷相;金佑逸;金炳默;洪宪杓 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/08;B08B3/12;C11D7/60;C11D7/50 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 徐川;张颖玲 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请公开了一种用于清洗有机EL掩模的方法，所述方法包括以下步骤：(A)在洁净的腔室内提供四氢呋喃(THF)溶液；(B)将有机EL掩模浸泡在THF溶液中；(C)超声清洗浸泡在THF溶液中的有机EL掩模；以及(D)用去离子水漂洗清洗后的有机EL掩模。本申请还公开了一种用于有机EL掩模的清洗液，所述清洗液包括四氢呋喃和异丙醇。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 制造 有机 el 器件 沉积 方法 | ||
【主权项】：
一种用于清洗有机EL掩模的方法，所述方法包括以下步骤：(A)在洁净的腔室内提供四氢呋喃THF溶液；(B)将所述有机EL掩模浸泡在所述THF溶液中；(C)超声清洗浸泡在所述THF溶液中的所述有机EL掩模；以及(D)用去离子水漂洗清洗后的所述有机EL掩模。
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