[发明专利]用于多晶硅还原炉的底盘组件无效
| 申请号： | 201210470076.1 | 申请日： | 2012-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102910632A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 严大洲;肖荣晖;毋克力;汤传斌;汪绍芬;姚心 | 申请（专利权）人： | 中国恩菲工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100038*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件，包括：底盘本体；二十四对电极，所述二十四对电极设在所述底盘本体上且分别分布在第一至第四圈上，所述第一至第四圈为以所述底盘本体的中心为中心且由内向外依次增大的四个同心正八边形；进气系统，所述进气系统包括设在所述底盘本体中部的多个进气口；和排气系统，所述排气系统包括多个排气口，所述排气口设在所述底盘本体上且位于所述第四圈与所述底盘本体的外周沿之间。根据本发明实施例的用于多晶硅还原炉的底盘组件，可以合理利用热能，同时也可以避免炉体内侧壁带走过多热量，可以降低热量损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 多晶 还原 底盘 组件 | ||
【主权项】：
一种用于多晶硅还原炉的底盘组件，其特征在于，包括：底盘本体；二十四对电极，所述二十四对电极设在所述底盘本体上且分别分布在第一至第四圈上，所述第一至第四圈为以所述底盘本体的中心为中心且由内向外依次增大的四个同心正八边形；进气系统，所述进气系统包括设在所述底盘本体中部的多个进气口；和排气系统，所述排气系统包括多个排气口，所述排气口设在所述底盘本体上且位于所述第四圈与所述底盘本体的外周沿之间。
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