[发明专利]一种简易的PDMS聚合物微透镜阵列的制备方法及应用有效
| 申请号： | 201210470418.X | 申请日： | 2012-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN102967890A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 秦建华;姜雷;朱国丽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人： | 张晨 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种简易的PDMS聚合物微透镜阵列的制备方法及应用，采用光刻方法设计好的图形在SU8光刻胶上曝光，然后采用显影液进行显影，控制显影时间，使未曝光的SU8光刻胶部分去除；然后将其置于烘箱内进行烘烤，使其底部呈圆弧状；取出降至室温后，进行二次曝光，使SU8完全固化，便制成用于制作PDMS聚合物透镜的模板；将未固化后的PDMS聚合物溶液倒入上述的模板上，加热固化PDMS聚合物溶液，剥离PDMS芯片便制成PDMS聚合物透镜阵列；制备成的PDMS透镜可以用于光学成像等应用；本发明方法具有操作简单、快速，实验成本低廉，可与其它技术集成等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 简易 pdms 聚合物 透镜 阵列 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种简易的PDMS聚合物微透镜阵列的制备方法，其特征在于：该方法的具体步骤如下：（1）采用光刻机在掩膜下对SU‑8聚合物玻璃片曝光，形成曝光区域和未曝光区域；（2）采用显影液对SU8进行显影，控制显影时间，使未曝光的区域部分被去除；（3）将玻璃片置于60~100度烘箱内，使未曝光的SU8聚合物发生热熔，表面变成凹透镜形状；（4）对热熔后的SU‑8聚合物模板进行整体的紫外曝光10~300秒，制成SU8微透镜阵列模板；（5）将未固化PDMS聚合物溶液倾倒入SU8微透镜阵列模板上，80‑90摄氏度加热固化20~120分钟，剥离得到PDMS聚合物透镜阵列。
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