[发明专利]用于制造反向反射器模具和反向反射微结构的方法及其装置在审
| 申请号： | 201210480226.7 | 申请日： | 2012-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN103317627A | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·斯科特 | 申请（专利权）人： | 奥丽福美洲公司 |
| 主分类号： | B29C33/38 | 分类号： | B29C33/38;G02B5/124;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 武晨燕;张颖玲 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明呈现使用激光直写技术制造反向反射器模具和反向反射薄板的方法及其相应产品。在一个实施方案中，提供一种无缝反向反射薄板，其具有以连续反向反射微结构化图案形成的多个反向反射器。在本文所述的方法中，提供其表面上具有光敏涂层的基底。通过将所述光敏涂层选择性地曝光至一束电磁辐射而在所述光敏涂层中产生表面浮突的微结构化图案。所述光敏涂层的暴露部分被显影，以在所述基底表面上形成反向反射微结构化图案。接着将所述反向反射微结构化图案转印到反向反射器模具中，将所述反向反射微结构化图案包括在其表面上。接着由所述反向反射器模具形成在其表面上含有所述反向反射微结构化图案的反向反射薄板。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 反向 反射 模具 微结构 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种用于制造反向反射器模具的方法，其包括：提供其至少一个表面上具有光敏涂层的基底；通过将所述光敏涂层选择性地曝光至一束电磁辐射而在所述光敏涂层中产生表面浮突的微结构化图案；将所述光敏涂层的曝光部分显影，以在所述基底表面上形成反向反射微结构化图案；和将所述反向反射微结构化图案转印到在其表面上包括所述反向反射微结构化图案的反向反射器模具中。
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