[发明专利]一种利用纳米压印技术快速制备蓝宝石图形衬底的方法

摘要

本发明揭示了一种纳米压印技术制备蓝宝石图形衬底的方法，包括如下步骤：采用硬模板和软模板两种方式制备纳米压印模板，在洁净的蓝宝石衬底上生长外延层，蒸渡SiO2或Cr得到目标片，然后在目标片表面涂覆适量的热压胶，匀胶后的目标片与纳米压印模板进行压印，将光刻胶表面图案转移到目标片表面，通过一系列后处理，得到所需蓝宝石图形衬底。本发明的有益效果主要体现在：突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，制备具有纳米特征尺寸图形衬底，图形衬底尺寸小于500nm。实现了全新的NPSS衬底产业化技术，同时降低了衬底加工成本和外延生产成本，LED照明芯片生产成本降低15%等诸多优点。

主权项

一种利用纳米压印技术快速制备蓝宝石图形衬底的方法，其特征在于：采用纳米压印的方法，包括如下步骤：步骤一、制备压印图形母版，采用电子束直写在硅基板上制备纳米尺寸图形结构，获得纳米压印图形母版；所述纳米尺寸的图形根据模拟LED照明光场的优化结果设定；步骤二、翻印模板，根据步骤一中的压印图形母版翻印模板；步骤三、蓝宝石基板制作并涂胶，在蓝宝石基板上旋涂一层光刻涂胶或热压胶；步骤四、模板压印，压印机把步骤二中的翻印模板压到步骤三中蓝宝石基片上的光刻涂胶或热压胶上，使涂胶或热压胶充满翻印模板的凹陷图案内；步骤五、图形转移，将上述步骤四中经压印处理后的纳米压印模板与蓝宝石衬底分离，蓝宝石衬底表面的光刻胶或热压胶上得到所需的图案；步骤六、最终处理，通过电感耦合等离子体刻蚀或者反应离子束刻蚀，再经过去胶、腐蚀、清洗、烘干处理，得到最终的蓝宝石图形衬底。