[发明专利]一种制备多孔硅基质子交换膜的方法有效
申请号: | 201210484580.7 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN102983344A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 王晓红;王玫;李剑楠;刘理天 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01M8/10 | 分类号: | H01M8/10 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 薄观玖 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种制备多孔硅基质子交换膜的方法,所述方法包括三个步骤:1)多孔硅膜的亲水化,利用硫酸和双氧水处理多孔硅膜,使其侧壁上嫁接足够多的羟基;2)硅烷偶联剂的嫁接,利用缩合反应把硅烷偶联剂嫁接在多孔硅的侧壁,作为磺酸基的骨架;3)磺化,利用硝酸氧化硅烷偶联剂末端的巯基,使其氧化成为磺酸基。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 多孔 基质 交换 方法 | ||
【主权项】:
一种制备多孔硅基质子交换膜的方法,其特征在于所述方法包括三个步骤:1)多孔硅膜的亲水化,利用硫酸和双氧水处理多孔硅膜,使其侧壁上嫁接足够多的羟基;2)硅烷偶联剂的嫁接,利用缩合反应把硅烷偶联剂嫁接在多孔硅的侧壁,作为磺酸基的骨架;3)磺化,利用硝酸氧化硅烷偶联剂末端的巯基,使其氧化成为磺酸基。
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