[发明专利]焦点位置改变设备及使用其的共焦光学设备有效
| 申请号： | 201210488295.2 | 申请日： | 2012-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN103309030A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 石原满宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社高岳制作所 |
| 主分类号： | G02B26/02 | 分类号： | G02B26/02;G01B11/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 舒雄文;蹇炜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据一个实施例，一种焦点位置改变设备设置在具有光源和物镜的共焦光学设备的光路上并配置为改变所述物镜在所述物镜的光轴方向上的焦点位置，所述焦点位置改变设备至少包括多个光路改变块和旋转板。所述多个光路改变块中的每一个彼此的折射率和厚度的至少之一不同。在旋转板上，所述多个光路改变块沿所述旋转板的旋转方向布置以与所述物镜的光轴交叉。并且抗反射层形成于所述旋转板的在所述光源一侧的表面上的预定区域中。 | ||
| 搜索关键词： | 焦点 位置 改变 设备 使用 光学 | ||
【主权项】：
一种焦点位置改变设备，设置在具有光源和物镜的共焦光学设备的光路上并配置为改变所述物镜在所述物镜的光轴方向上的焦点位置，所述焦点位置改变设备包括：多个光路改变块，每个光路改变块由平行板形状的透明体形成并配置为彼此的折射率和厚度的至少之一不同；旋转板，所述多个光路改变块沿所述旋转板的旋转方向布置在所述旋转板上以与所述物镜的光轴交叉，所述旋转板配置为具有形成于所述旋转板的在所述光源一侧的表面上的预定区域中的抗反射层；以及驱动单元，配置为旋转所述旋转板。
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