[发明专利]等离子体的监控及杂散电容的最小化

摘要

本发明基本上涉及一种电容耦合的等离子体(CCP)处理腔、一种用于减小或防止杂散电容的方法和一种用于测量在所述处理腔内的等离子体状态的方法。由于CCP处理腔尺寸上的增大，杂散电容有会对工艺产生负面影响的趋势。此外，RF接地带可能断裂。通过增大腔背板和腔壁之间的间隔，可以将杂散电容最小化。此外，可以通过在背板而不是在匹配网络测量等离子体的状态来监控等离子体。在这样的测量中，可以分析等离子体的谐波数据以展示腔中的等离子体处理状态。

主权项

一种用于测量电容耦合的等离子体腔中的等离子体状态的方法，包括：经匹配网络从RF功率源传送RF功率到所述电容耦合的等离子体腔的背板；在所述电容耦合的等离子体腔中激发等离子体；和在与所述匹配网络隔开的位置测量所述等离子体的第二和第三谐波的一个或多个相位，其中，所述电容耦合的等离子体腔的壁架通过电隔离器与所述背板电气绝缘，且其中，所述电隔离器的厚度以及所述背板和所述电容耦合的等离子体腔的腔盖之间的距离都被增大，从而减小或消除杂散电容。