[发明专利]分子玻璃正性光刻胶及其图案化方法

摘要

本发明涉及通过曝光实现图案化所使用的分子玻璃正性光刻胶组合物以及用于形成光刻胶图案的方法。本发明公开的正性光刻胶组合物包括(A)官能团保护的六元含氮杂环衍生物，其含有酸敏感的官能团保护的酚基；(B)光致产酸剂(Photoacid generator，PAG)；和(C)溶剂，其中，所述官能团保护的六元含氮杂环衍生物和光致产酸剂能够溶解在溶剂中。当所述分子玻璃正性光刻胶曝光时，光致产酸剂释放酸，这些酸与酸敏感的官能团反应形成酚基。这些含酚基的六元含氮杂环衍生物在显影液中加速溶解，从而形成特定的光刻胶图案。这种分子玻璃正性光刻胶组合物可以应用在微电子技术领域。

主权项

1.一种含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物，其特征在于，该衍生物具有通式I的结构：其中，X为碳原子或者氮原子，优选为碳原子；R₁，R₂，R₃，R₄分别选自氢原子；C₁-C₆烷基；未取代的或C₁-C₆烷基单取代的或C₁-C₆烷基多取代的苯基、噻吩基、噻唑基、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、萘基、或喹啉基；或含酸敏感基团的苯基、噻吩基、噻唑基、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、萘基、喹啉基；且R₁，R₂，R₃，R₄中至少一个是含酸敏感基团的苯基、噻吩基、噻唑基、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、萘基、喹啉基，所述R₁，R₂，R₃，R₄可以相同或不同。