[发明专利]化学机械研磨装置及研磨方法在审
申请号: | 201210500821.2 | 申请日: | 2012-11-29 |
公开(公告)号: | CN103846777A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 王坚;杨贵璞;王晖 | 申请(专利权)人: | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B57/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学机械研磨装置,包括转台、研磨垫、研磨头及研磨液供应臂,其中,研磨液供应臂内布设有研磨液供应管道,研磨液供应管道的一端连接有研磨液供应管头,研磨液供应管头设置在研磨液供应臂的一端并位于研磨垫的上方,用于向研磨垫输送研磨液,该装置还包括与研磨液供应臂的另一端相连接的驱动装置,用以带动研磨液供应臂转动,从而带动布设于研磨液供应臂内的研磨液供应管道及与研磨液供应管道相连接的研磨液供应管头转动。研磨时,通过驱动装置带动研磨液供应管道及研磨液供应管头转动,使得研磨液在研磨垫上分布更均匀,晶圆平坦度更好。本发明还公开了一种化学机械研磨方法。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种化学机械研磨装置,包括转台、研磨垫、研磨头及研磨液供应臂,其中,研磨液供应臂内布设有研磨液供应管道,研磨液供应管道的一端连接有研磨液供应管头,研磨液供应管头设置在研磨液供应臂的一端并位于研磨垫的上方,用于向研磨垫输送研磨液,其特征在于,还包括与研磨液供应臂的另一端相连接的驱动装置,用以带动研磨液供应臂转动,从而带动布设于研磨液供应臂内的研磨液供应管道及与研磨液供应管道相连接的研磨液供应管头转动。
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