[发明专利]与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法无效
申请号: | 201210502173.4 | 申请日: | 2012-11-30 |
公开(公告)号: | CN103021004A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 苏荣华;陈玉华;王吉远;高洪生;林伟;余松林;王吉军;黄艳萍;吴卫;刘晓鸣 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军61517部队 |
主分类号: | G06T11/00 | 分类号: | G06T11/00;G06T7/00 |
代理公司: | 北京中建联合知识产权代理事务所 11004 | 代理人: | 朱丽岩;刘湘舟 |
地址: | 100850*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法,包括:获取需模拟区域正方形二维基平面的四个角点的高程,利用该四个角点的高程在该正方形二维基平面上用随机中点法经多次迭代,得到伪装遮障面的特征点的高程数据;分析需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数,得出空间特征参数的相似度,并得出一综合相似度;该综合相似度符合要求时根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据,制作与需模拟区域相匹配的伪装遮障面。本发明可利用随机中点法中衰减因子控制遮障面的粗糙度和起伏度及平均高度波动范围,通过迭代次数控制遮障面精细程度;生成的伪装遮障面与需模拟区域融合效果好,适用于模拟起伏度较大地表的遮障面制作。 | ||
搜索关键词: | 起伏 地表 空间 特征 匹配 遮障面 制作方法 | ||
【主权项】:
一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法,其特征在于,包括以下步骤:1)获取需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程:2)利用所述四个角点的高程,在所述正方形二维基平面上运用随机中点法,通过多次迭代得到伪装遮障面的特征点的高程数据;3)分析所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数,得出所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数的相似度,并根据所述各空间特征参数的相似度,利用强制评分法得出一所述需模拟区域与伪装遮障面的综合相似度;4)所述综合相似度符合要求时根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据,制作与所述需模拟区域相匹配的伪装遮障面;否则返回步骤2),重复以上步骤。
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