[发明专利]一种环形电阻膜片修正方法有效
| 申请号： | 201210505704.5 | 申请日： | 2012-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102945716A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 左湘汉;王惠峰;濛淑红;王广林;曾好 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司烽火机械厂 |
| 主分类号： | H01C17/235 | 分类号： | H01C17/235 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 611100 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了环形电阻膜片的修正方法，通过修刻头切入环形电阻膜片表面的碳粉层，使碳粉层的厚度发生变化，从而使环形电阻膜片的总电压发生变化，当环形电阻膜片的总电压与预设的总电压相等时，停止切入，完成该点的修刻过程。利用本方法，引入总电压反馈算法可以免除加工时电刷的参与，提高了测量精度，同时使测量及修刻的过程得到简化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 环形 电阻 膜片 修正 方法 | ||
【主权项】：
一种环形电阻膜片修正方法，其特征在于，所述环形电阻膜片处于恒流源供电系统中，所述方法包括：确定所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界；将所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界之间的区域作为修刻区域；在所述修刻区域上选取修刻点；修刻头沿所述修刻点切入所述环形电阻膜片表面的碳粉层，并检测环形电阻膜片的总电压；比较所述环形电阻膜片的总电压和预设的总电压；当所述环形电阻膜片的总电压与预设的总电压相等时，停止修刻点的切入。
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